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41.
对于超细长弹性杆静力学的Kirchhoff方程,用动力学的概念和方法研究其常值特解 和稳定性问题.计算了Kirchhoff方程相对固定坐标系、截面主轴坐标系以及中心线Frenet 坐标系的常值特解,进行了Kirchhoff动力学比拟,用一次近似理论分别讨论了它们的Lyapu nov稳定性,导出了若干稳定性判据,并在参数平面上绘出了稳定域.
关键词:
超细长弹性杆
Kirchhoff方程
常值特解
Lyapunov稳定性 相似文献
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在e-A深度非弹性散射过程中, 喷注穿过冷核介质时, 多重散射诱导胶子辐射会导致对碎裂函数的修正及喷注的能量损失.前期研究中关于计算e-A深度非弹性散射中胶子辐射振幅的两种方法: 螺旋振幅近似和微扰QCD严格计算都异常繁杂.
本文发展了一种新的方法, 可以方便计算出多重散射导致胶子辐射的振幅, 得到的碎裂函数的修正以及能量损失与严格计算的结果一致. 相似文献
45.
Man Young Kim Seung Wook Baek 《Journal of Quantitative Spectroscopy & Radiative Transfer》2005,90(3-4):377-388
Radiative heat transfer in an axisymmetric enclosure with absorbing, emitting, and scattering medium is studied here by using the different methods such as MDOM, FVM, and MFVM with emphasis on the treatment of angular derivative term, which appears in curvilinear coordinates due to angular redistribution. After final discretization equation for MFVM is introduced by using the step scheme and directional weights, the present approach is validated by applying it to three different benchmarking problems with absorbing, emitting, and scattering medium. All of the results presented here support its accuracy as well as moderate efficiency. Finally, the present approaches are applied to a truncated cone-shaped enclosure as a body-fitted geometry case. 相似文献
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48.
CHEN Hongjia GAO Yun & SHANG Shikui Department of Mathematics University of Science Technology of China Hefei China Department of Mathematics Statistics York University Toronto Ontario Canada MJ P 《中国科学A辑(英文版)》2006,(11)
We use a fermionic extension of the bosonic module to obtain a class of B(0, A)graded Lie superalgebras with nontrivial central extensions. 相似文献
49.
Baowei Qiao Jie Feng Yun Ling Ting’ao Tang Bomy Chen 《Applied Surface Science》2006,252(24):8404-8409
The effects of Si doping on the structural and electrical properties of Ge2Sb2Te5 film are studied in detail. Electrical properties and thermal stability can be improved by doping small amount of Si in the Ge2Sb2Te5 film. The addition of Si in the Ge2Sb2Te5 film results in the increase of both crystallization temperature and phase-transition temperature from face-centered cubic (fcc) phase to hexagonal (hex) phase, however, decreases the melting point slightly. The crystallization activation energy reaches a maximum at 4.1 at.% and then decreases with increasing dopant concentration. The electrical conduction activation energy increases with the dopant concentration, which may be attributed to the increase of strong covalent bonds in the film. The resistivity of Ge2Sb2Te5 film shows a significant increase with Si doping. When doping 11.8 at.% of Si in the film, the resistivity after 460 °C annealing increases from 1 to 11 mΩ cm compared to the undoped Ge2Sb2Te5 film. Current-voltage (I-V) characteristics show Si doping may increase the dynamic resistance, which is helpful to writing current reduction of phase-change random access memory. 相似文献
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